導航
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產品詳情
材質：Mo1
類型：平面靶材,旋轉靶材
形狀：管狀，方形，圓形，長條形
純度：99.95%，99.97%，99.98%
常規密度：10g/cm3～10.15 g/cm3
高密度：>10.15g/cm3
尺寸：按圖紙加工，滿足精度要求。
產品特性: 高密度，高純度，細晶粒，致密性好
應用領域：濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。濺射靶材的主要應用于平板顯示鍍膜、半導體鍍膜，玻璃鍍膜、太陽能電池鍍膜、裝飾鍍膜等行業。
工藝流程：
平面靶材：鉬粉-壓制-燒結-軋制-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
小型旋轉靶材：鉬粉-壓制-燒結-鍛造-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
大型旋轉靶材：鉬粉-壓制-燒結-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
HIP工藝生產靶材的優勢：
--密度更高
--晶粒組織更細小均勻
--提高機械性能
--消除內部氣孔
--提高切削加工表面質量
洛陽辰駿鎢鉬科技有限公司可生產供應以下各種形狀的高質量靶材：
鎢靶，鉬靶，鉬鈮合金靶材，鈮靶，鉻靶，鈦靶，鉭靶
